METHOD OF INSPECTING A SAMPLE, AND MULTI-ELECTRON BEAM INSPECTION SYSTEM

A method for inspecting a sample with a multi-electron beam inspection system (100) is described. The method includes: placing the sample on a movable stage (110) extending in an X-Y-plane; generating a plurality of electron beams (105) propagating toward the sample; focusing the plurality of electron beams on the sample at a plurality of probe positions (106) in a two-dimensional array; scanning the sample surface by moving the movable stage in a predetermined scanning pattern while maintaining the plurality of electron beams stationary; and detecting signal electrons emitted from the sample during the movement of the movable stage for inspecting the sample. Further, a multi-electron beam inspection system (100) for inspecting a sample according to the above method is described. Un procédé d'inspection d'un échantillon à l'aide d'un système d'inspection à faisceaux d'électrons multiples (100). Le procédé consiste : à placer l'échantillon sur une platine mobile (110) s'étendant dans un plan X-Y ; à générer une pluralité de faisceaux d'électrons (105) se propageant vers l'échantillon ; à focaliser la pluralité de faisceaux d'électrons sur l'échantillon au niveau d'une pluralité de positions de sonde (106) dans un réseau bidimensionnel ; à balayer la surface d'échantillon en déplaçant la platine mobile dans un motif de balayage prédéterminé tout en maintenant fixe la pluralité de faisceaux d'électrons ; et à détecter des électrons de signaux émis par l'échantillon pendant le déplacement de la platine mobile afin d'inspecter l'échantillon. En outre, l'invention concerne un système d'inspection à faisceaux d'électrons multiples (100) permettant d'inspecter un échantillon conformément au procédé ci-dessus.