FACEPLATE WITH LOCALIZED FLOW CONTROL

Exemplary semiconductor processing chambers may include a gasbox. The chambers may include a substrate support. The chambers may include a blocker plate positioned between the gasbox and the substrate support. The blocker plate may define a plurality of apertures through the plate. The chambers may...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SUN, Junghoon, YU, Hang, THOTTAPPAYIL, Arun, CHOI, Jun Tae, KULKARNI, Mayur Govind
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Exemplary semiconductor processing chambers may include a gasbox. The chambers may include a substrate support. The chambers may include a blocker plate positioned between the gasbox and the substrate support. The blocker plate may define a plurality of apertures through the plate. The chambers may include a faceplate positioned between the blocker plate and the substrate support. The faceplate may be characterized by a first surface facing the blocker plate and a second surface opposite the first surface. The faceplate may be characterized by a central axis. The faceplate may define a plurality of apertures through the faceplate distributed in a number of rings. Each ring of apertures may include a scaled increase in aperture number from a ring radially inward. A radially outermost ring of apertures may be characterized by a number of apertures reduced from the scaled increase in aperture number. L'invention concerne des chambres de traitement de semi-conducteurs qui peuvent comprendre une boîte à gaz. Les chambres peuvent comprendre un support de substrat. Les chambres peuvent comprendre une plaque de blocage positionnée entre la boîte à gaz et le support de substrat. La plaque de blocage peut délimiter une pluralité d'ouvertures à travers la plaque. Les chambres peuvent comprendre une plaque frontale positionnée entre la plaque de blocage et le support de substrat. La plaque frontale peut être caractérisée par une première surface faisant face à une plaque de blocage et une seconde surface opposée à la première surface. La plaque frontale peut être caractérisée par un axe central. La plaque frontale peut définir une pluralité d'ouvertures à travers la plaque avant distribuées dans un certain nombre d'anneaux. Chaque anneau d'ouvertures peut comprendre une augmentation à l'échelle du nombre d'ouvertures à partir d'un anneau radialement vers l'intérieur. Un anneau radialement le plus à l'extérieur d'ouvertures peut être caractérisé par un certain nombre d'ouvertures réduites à partir de l'augmentation à l'échelle du nombre d'ouvertures.