RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA

Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SUNDAR, Ramcharan, KUMAR, Hanish, SUBRAMANI, Anantha, KOTRAPPA, Arun
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator SUNDAR, Ramcharan
KUMAR, Hanish
SUBRAMANI, Anantha
KOTRAPPA, Arun
description Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body positioned above the flange. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a second body positioned below the flange, where the first body is affixed to the second body by a pillar that passes through the first hole. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a spring attached between the second plate and the second body, where the spring passes through the second hole, and a conductive band to electrically couple the first body to the flange. Des modes de réalisation divulgués ici concernent un système de retour de RF. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend une première plaque dotée d'une bride traversée d'un premier trou et d'un second trou. Le système de retour de RF peut en outre comprendre une seconde plaque recouvrant la première plaque, ainsi qu'un premier corps, positionné au-dessus de la bride. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un second corps, positionné au-dessous de la bride et fixé au second corps par une colonne traversant le premier trou. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un ressort fixé entre la seconde plaque et le second corps, le ressort traversant le second trou ; et une bande conductrice, permettant de coupler électriquement le premier corps à la bride.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2021194702A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2021194702A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2021194702A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZDAIclMIcg0JDfJTCHAM8VBw8w8C8l1CnUM8_f0U_N2AokGOwZ4hns4KAT6Owb6OPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDI0NDSxNzAyNHQmDhVALZyJws</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA</title><source>esp@cenet</source><creator>SUNDAR, Ramcharan ; KUMAR, Hanish ; SUBRAMANI, Anantha ; KOTRAPPA, Arun</creator><creatorcontrib>SUNDAR, Ramcharan ; KUMAR, Hanish ; SUBRAMANI, Anantha ; KOTRAPPA, Arun</creatorcontrib><description>Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body positioned above the flange. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a second body positioned below the flange, where the first body is affixed to the second body by a pillar that passes through the first hole. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a spring attached between the second plate and the second body, where the spring passes through the second hole, and a conductive band to electrically couple the first body to the flange. Des modes de réalisation divulgués ici concernent un système de retour de RF. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend une première plaque dotée d'une bride traversée d'un premier trou et d'un second trou. Le système de retour de RF peut en outre comprendre une seconde plaque recouvrant la première plaque, ainsi qu'un premier corps, positionné au-dessus de la bride. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un second corps, positionné au-dessous de la bride et fixé au second corps par une colonne traversant le premier trou. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un ressort fixé entre la seconde plaque et le second corps, le ressort traversant le second trou ; et une bande conductrice, permettant de coupler électriquement le premier corps à la bride.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210930&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2021194702A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210930&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2021194702A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SUNDAR, Ramcharan</creatorcontrib><creatorcontrib>KUMAR, Hanish</creatorcontrib><creatorcontrib>SUBRAMANI, Anantha</creatorcontrib><creatorcontrib>KOTRAPPA, Arun</creatorcontrib><title>RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA</title><description>Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body positioned above the flange. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a second body positioned below the flange, where the first body is affixed to the second body by a pillar that passes through the first hole. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a spring attached between the second plate and the second body, where the spring passes through the second hole, and a conductive band to electrically couple the first body to the flange. Des modes de réalisation divulgués ici concernent un système de retour de RF. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend une première plaque dotée d'une bride traversée d'un premier trou et d'un second trou. Le système de retour de RF peut en outre comprendre une seconde plaque recouvrant la première plaque, ainsi qu'un premier corps, positionné au-dessus de la bride. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un second corps, positionné au-dessous de la bride et fixé au second corps par une colonne traversant le premier trou. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un ressort fixé entre la seconde plaque et le second corps, le ressort traversant le second trou ; et une bande conductrice, permettant de coupler électriquement le premier corps à la bride.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDAIclMIcg0JDfJTCHAM8VBw8w8C8l1CnUM8_f0U_N2AokGOwZ4hns4KAT6Owb6OPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7UkPtzfyMDI0NDSxNzAyNHQmDhVALZyJws</recordid><startdate>20210930</startdate><enddate>20210930</enddate><creator>SUNDAR, Ramcharan</creator><creator>KUMAR, Hanish</creator><creator>SUBRAMANI, Anantha</creator><creator>KOTRAPPA, Arun</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210930</creationdate><title>RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA</title><author>SUNDAR, Ramcharan ; KUMAR, Hanish ; SUBRAMANI, Anantha ; KOTRAPPA, Arun</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2021194702A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2021</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SUNDAR, Ramcharan</creatorcontrib><creatorcontrib>KUMAR, Hanish</creatorcontrib><creatorcontrib>SUBRAMANI, Anantha</creatorcontrib><creatorcontrib>KOTRAPPA, Arun</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SUNDAR, Ramcharan</au><au>KUMAR, Hanish</au><au>SUBRAMANI, Anantha</au><au>KOTRAPPA, Arun</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA</title><date>2021-09-30</date><risdate>2021</risdate><abstract>Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body positioned above the flange. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a second body positioned below the flange, where the first body is affixed to the second body by a pillar that passes through the first hole. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a spring attached between the second plate and the second body, where the spring passes through the second hole, and a conductive band to electrically couple the first body to the flange. Des modes de réalisation divulgués ici concernent un système de retour de RF. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend une première plaque dotée d'une bride traversée d'un premier trou et d'un second trou. Le système de retour de RF peut en outre comprendre une seconde plaque recouvrant la première plaque, ainsi qu'un premier corps, positionné au-dessus de la bride. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un second corps, positionné au-dessous de la bride et fixé au second corps par une colonne traversant le premier trou. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un ressort fixé entre la seconde plaque et le second corps, le ressort traversant le second trou ; et une bande conductrice, permettant de coupler électriquement le premier corps à la bride.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre
recordid cdi_epo_espacenet_WO2021194702A1
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
title RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-21T01%3A46%3A15IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SUNDAR,%20Ramcharan&rft.date=2021-09-30&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2021194702A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true