RF RETURN PATH FOR REDUCTION OF PARASITIC PLASMA
Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Embodiments disclosed herein include an RF return assembly. In an embodiment, the RF return assembly comprises a first plate with a flange, where a first hole and a second hole pass through the flange. The RF return assembly may further comprise a second plate over the first plate, and a first body positioned above the flange. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a second body positioned below the flange, where the first body is affixed to the second body by a pillar that passes through the first hole. In an embodiment, the RF return assembly further comprises a spring attached between the second plate and the second body, where the spring passes through the second hole, and a conductive band to electrically couple the first body to the flange.
Des modes de réalisation divulgués ici concernent un système de retour de RF. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend une première plaque dotée d'une bride traversée d'un premier trou et d'un second trou. Le système de retour de RF peut en outre comprendre une seconde plaque recouvrant la première plaque, ainsi qu'un premier corps, positionné au-dessus de la bride. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un second corps, positionné au-dessous de la bride et fixé au second corps par une colonne traversant le premier trou. Selon un mode de réalisation, le système de retour de RF comprend en outre un ressort fixé entre la seconde plaque et le second corps, le ressort traversant le second trou ; et une bande conductrice, permettant de coupler électriquement le premier corps à la bride. |
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