SUBSTRATE TRANSFER SYSTEMS AND METHODS OF USE THEREOF

Disclosed herein are systems and methods relating to a transfer chamber for an electronic device processing system. The transfer chamber can include a first magnetic levitation track having a face-up orientation and a second magnetic levitation track spaced from the first magnetic levitation track and having a face-down orientation. The system can include substrate carriers that move along the first and second magnetic levitation tracks where each substrate carrier includes a magnet on a bottom portion to interact with a first magnetic field and a second magnet on a top portion to interact with a second magnetic field. The system also can include at least one lift pin assembly to move the substrate carriers in a vertical direction between the first and second magnetic levitation tracks. L'invention concerne des systèmes et des procédés se rapportant à une chambre de transfert pour un système de traitement de dispositif électronique. La chambre de transfert peut comprendre une première piste de lévitation magnétique ayant une orientation de face vers le haut et une seconde piste de lévitation magnétique espacée de la première piste de lévitation magnétique et ayant une orientation de face vers le bas. Le système peut comprendre des supports de substrat qui se déplacent le long des première et seconde pistes de lévitation magnétique, chaque support de substrat comprenant un aimant sur une partie inférieure pour interagir avec un premier champ magnétique et un second aimant sur une partie supérieure pour interagir avec un second champ magnétique. Le système peut également comprendre au moins un ensemble broche de levage pour déplacer les supports de substrat dans une direction verticale entre les première et seconde pistes de lévitation magnétique.