APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING LAMPS

Examples disclosed herein relate to a method and apparatus for inspecting lamp dimensions. The method includes determining an actual measurement of a lamp. The lamp is configured to heat a substrate in a substrate processing apparatus. A window is generated, the window having a width and a height. The window is based upon a target measurement of the lamp. The method further includes generating a deviation based upon a difference between an image of the actual measurement and the window. The deviation is compared to a first threshold. The lamp is rejected if the deviation is outside the first threshold. Des exemples de l'invention concernent un procédé et un appareil pour inspecter des dimensions d'une ampoule. Le procédé comprend la détermination d'une mesure réelle d'une ampoule. L'ampoule est configurée pour chauffer un substrat dans un appareil de traitement de substrat. Une fenêtre est générée, la fenêtre présentant une largeur et une hauteur. La fenêtre est basée sur une mesure cible de l'ampoule. Le procédé comprend en outre la génération d'un écart basé sur une différence entre une image de la mesure réelle et la fenêtre. L'écart est comparé à un premier seuil. L'ampoule est rejetée si l'écart est inférieur au premier seuil.