CAPACITIVE SENSORS AND CAPACITIVE SENSING LOCATIONS FOR PLASMA CHAMBER CONDITION MONITORING

Capacitive sensors and capacitive sensing locations for plasma chamber condition monitoring are described. In an example, a plasma processing chamber includes a chamber wall surrounding a processing region. A chamber lid is over the chamber wall and above the processing region. A chamber floor is beneath the chamber wall and below the processing region. A support pedestal is in the processing region and below the chamber lid and above the chamber floor, and the support pedestal surrounded by the chamber wall. A capacitive sensor module can be in an opening of the chamber wall. The chamber lid can include a capacitive sensor module. The chamber floor can include an evacuation port and a capacitive sensor module within or adjacent to the evacuation port. The support pedestal can include a ring structure surrounding a substrate support region, and a capacitive sensor module in an opening of the ring structure. Capteurs capacitifs et emplacements de détection capacitive pour la surveillance d'état de chambre à plasma. Selon un exemple, une chambre de traitement à plasma comprend une paroi de chambre entourant une région de traitement. Un couvercle de chambre est sur la paroi de chambre et au-dessus de la région de traitement. Un fond de chambre se trouve en-dessous de la paroi de chambre et sous la région de traitement. Un socle de support est dans la région de traitement et sous le couvercle de chambre et au-dessus du fond de chambre, et le socle de support est entouré par la paroi de chambre. Un module de capteur capacitif peut être dans une ouverture de la paroi de chambre. Le couvercle de chambre peut comprendre un module de capteur capacitif. Le fond de chambre peut comprendre un orifice d'évacuation et un module de capteur capacitif à l'intérieur ou à proximité de l'orifice d'évacuation. Le socle de support peut comprendre une structure annulaire entourant une région de support de substrat, et un module de capteur capacitif dans une ouverture de la structure annulaire.