ELECTROSTATIC PLATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

An electrostatic plate (20) comprises: an insulated base (1); two conduction layers (2); two short-circuit plates (4); and an insulated coating (10). The insulated base (1) has an annular shape. The two conduction layers (2) are provided on the surface of the insulated base (1) and are separated by...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: NISHIMURA, Ryoki, AONO, Kazuaki
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:An electrostatic plate (20) comprises: an insulated base (1); two conduction layers (2); two short-circuit plates (4); and an insulated coating (10). The insulated base (1) has an annular shape. The two conduction layers (2) are provided on the surface of the insulated base (1) and are separated by a gap (3). The two short-circuit plates (4) are provided, respectively, on the surfaces of the two conduction layers (2). The insulated coating (10) is provided to the entire insulated base (1) in the peripheral direction so as to cover the two conduction layers (2), the two short-circuit plates (4), and the gap (3). Each of the two conduction layers (2) extends along the peripheral direction of the insulated base (1). Each of the two short-circuit plates (4) includes: a main part (4a) that extends along the peripheral direction of the insulated base (1); and a lead-out end part (4b) that is led out from one end of the main part (4a) in the peripheral direction of the insulated base (1) toward the radially outer side of the insulated base (1) and is connected to a line end coil. La présente invention concerne une plaque électrostatique (20) comprenant : une base isolée (1) ; deux couches de conduction (2) ; deux plaques de court-circuit (4) ; et un revêtement isolé (10). La base isolée (1) a une forme annulaire. Les deux couches de conduction (2) sont disposées sur la surface de la base isolée (1) et sont séparées par un espace (3). Les deux plaques de court-circuit (4) sont respectivement disposées sur les surfaces des deux couches de conduction (2). Le revêtement isolé (10) est disposé sur toute la base isolée (1) dans la direction périphérique de manière à recouvrir les deux couches de conduction (2), les deux plaques de court-circuit (4) et l'espace (3). Chacune des deux couches de conduction (2) s'étend le long de la direction périphérique de la base isolée (1). Chacune des deux plaques de court-circuit (4) comprend : une partie principale (4a) qui s'étend le long de la direction périphérique de la base isolée (1) ; et une partie d'extrémité de sortie (4b) qui est sortie d'une extrémité de la partie principale (4a) dans la direction périphérique de la base isolée (1) vers le côté radialement extérieur de la base isolée (1) et est reliée à une bobine d'extrémité de ligne. 静電板(20)は、絶縁性基盤(1)と、2つの導電層(2)と、2つの短絡板(4)と、絶縁被覆(10)とを備える。絶縁性基盤(1)は環状である。2つの導電層(2)は、絶縁性基盤(1)の表面上に設けられ、互いに隙間(3)をあけて離間している。2つの短絡板(4)は、2つの導電層(2)の各々の表面上に1つずつ設けられている。絶縁被覆(10)は、2つの導電層(2)、2つの短絡板(4)およ