OPTICAL METROLOGY SYSTEM AND METHOD

A measurement system is provided for use in optical metrology measurements. The measurement system comprises a control system which processes raw measured data indicative of spectral interferometric signals measured on a sample in response to illuminating electromagnetic field incident onto a top portion of the sample and comprising at least one spectral range to which said sample is substantially not absorbing. The processing comprises: extracting, from the raw measured data, a portion of spectral interferometric signals describing signal intensity variation with change of optical path difference during interferometric measurements, the extracted signal portion being independent of interferometric signals returned from a bottom portion of the sample in response to said illuminating electromagnetic field; and directly determining, from said extracted portion, both spectral amplitude and phase of reflection of the electromagnetic field from the top portion of the sample, thereby determining measured spectral signature characterizing the top portion of the sample. La présente invention a pour objet un système de mesure destiné à être utilisé lors de mesures de métrologie optique. Le système de mesure comprend un système de commande qui traite des données brutes mesurées indiquant des signaux interférométriques spectraux mesurés sur un échantillon en réponse à un champ électromagnétique d'éclairage incident sur une partie supérieure de l'échantillon et comprenant au moins une bande spectrale à laquelle ledit échantillon n'est sensiblement pas absorbant. Le traitement consiste à : extraire, à partir des données brutes mesurées, une partie de signaux interférométriques spectraux décrivant une variation d'intensité de signal avec un changement de différence de trajet optique pendant des mesures interférométriques, la partie de signaux extraite étant indépendante des signaux interférométriques renvoyés par une partie inférieure de l'échantillon en réponse audit champ électromagnétique d'éclairage; et déterminer directement, à partir de ladite partie extraite, à la fois l'amplitude spectrale et la phase de réflexion du champ électromagnétique à partir de la partie supérieure de l'échantillon, ce qui permet de déterminer une signature spectrale mesurée caractérisant la partie supérieure de l'échantillon.