RETICLE GRIPPER DAMPER AND ISOLATION SYSTEM FOR LITHOGRAPHIC APPARATUSES

Embodiments herein describe methods, devices, and systems for a reticle gripper damper and isolation system for handling reticles and reducing vibrations in a reticle handler for lithography apparatuses and systems. A reticle handler apparatus includes a reticle handler arm, a reticle baseplate configured to hold the reticle, and a gripper arranged to connect the reticle baseplate to the reticle handler arm. The gripper includes a static structure that is coupled to the reticle handler arm, an isolation structure that is coupled to the static structure, and one or more damping elements. The gripper is configured to reduce vibrations of the reticle in the reticle handler apparatus using the one or more damping elements. Des modes de réalisation de la présente invention décrivent des procédés, des dispositifs et des systèmes pour un amortisseur d'élément de préhension de réticule et pour un système d'isolation servant à manipuler des réticules et à réduire les vibrations dans un dispositif de manipulation de réticule pour des appareils et des systèmes de lithographie. Un appareil de manipulation de réticule comprend un bras manipulateur de réticule, une plaque de base de réticule conçue pour supporter le réticule, et un élément de préhension agencé de façon à relier la plaque de base de réticule au bras manipulateur de réticule. L'élément de préhension comprend une structure statique qui est couplée au bras manipulateur de réticule, une structure d'isolation qui est couplée à la structure statique, et un ou plusieurs éléments d'amortissement. L'élément de préhension est conçu pour réduire les vibrations du réticule dans l'appareil de manipulation de réticule à l'aide du ou des éléments d'amortissement.