WATER SOLUBLE ORGANIC-INORGANIC HYBRID MASK FORMULATIONS AND THEIR APPLICATIONS
Water soluble organic-inorganic hybrid masks and mask formulations, and methods of dicing semiconductor wafers are described. In an example, a mask for a wafer singulation process includes a water-soluble matrix based on a solid component and water. A p-block metal compound, an s-block metal compoun...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | Water soluble organic-inorganic hybrid masks and mask formulations, and methods of dicing semiconductor wafers are described. In an example, a mask for a wafer singulation process includes a water-soluble matrix based on a solid component and water. A p-block metal compound, an s-block metal compound, or a transition metal compound is dissolved throughout the water-soluble matrix.
L'invention concerne des masques hybrides organiques-inorganiques hydrosolubles et des formulations pour de tels masques, ainsi que des procédés de découpage en dés de galettes de semi-conducteur. Dans un exemple, un masque destiné à un procédé de découpage en dés individuels de galettes comprend une matrice hydrosoluble à base d'un composant solide et d'eau. Un composé métallique du bloc p, un composé métallique du bloc s ou un composé métallique de transition est dissous dans toute la matrice soluble dans l'eau. |
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