IN-SITU LIGHT DETECTION METHODS AND APPARATUS FOR ULTRAVIOLET SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING

Methods and apparatus for detecting ultraviolet light are provided herein. For example, an ultraviolet (UV) process chamber includes a vacuum window or a transparent showerhead; a UV light source disposed above one of the vacuum window or the transparent showerhead and configured to generate and transmit UV light into a process volume of the UV process chamber; and a first UV sensor configured to measure at least one of emissivity from the UV light source or irradiance of the UV light transmitted into the process volume and to transmit a signal corresponding to a measured at least one of emissivity from the UV light source or irradiance of the UV light to a controller coupled to the UV process chamber during operation. Procédés et appareil de détection de lumière ultraviolette. Par exemple, une chambre de traitement à ultraviolet (UV) comprend une fenêtre à vide ou une pomme de douche transparente ; une source de lumière UV disposée au-dessus de la fenêtre à vide ou de la pomme de douche transparente et conçue pour générer et transmettre de la lumière UV dans un volume de traitement de la chambre de traitement à UV ; et un premier capteur d'UV conçu pour mesurer l'émissivité provenant de la source de lumière UV et/ou l'éclairement énergétique de la lumière UV transmise dans le volume de traitement et pour transmettre un signal correspondant à l'émissivité de la source de lumière UV et/ou à l'éclairement énergétique de la lumière UV mesurés à un dispositif de commande couplé à la chambre de traitement à UV pendant le fonctionnement.