CLEANING DEVICE, POLISHING DEVICE, AND DEVICE AND METHOD FOR CALCULATING ROTATIONAL RATE OF SUBSTRATE IN CLEANING DEVICE

This cleaning device is provided with a plurality of rollers that retain a peripheral edge section of a substrate, a rotary drive unit that causes the substrate to rotate by driving the plurality of rollers to rotate, a cleaning member that is in contact with the substrate and cleans the substrate, a cleaning fluid supply nozzle that supplies a cleaning fluid to the substrate, a microphone that senses sound produced by a notch in the peripheral edge section of the substrate striking the plurality of rollers, and a rotational rate calculation unit that calculates the rotational rate of the substrate on the basis of the sounds sensed by the microphone. Le présent dispositif de nettoyage est pourvu d'une pluralité de rouleaux qui retiennent une section de bord périphérique d'un substrat, d'une unité d'entraînement rotatif qui amène le substrat à tourner en entraînant la pluralité de rouleaux en rotation, d'un élément de nettoyage qui est en contact avec le substrat et nettoie le substrat, d'une buse d'alimentation en fluide de nettoyage qui alimente le substrat en fluide de nettoyage, d'un microphone qui détecte le son produit par une encoche dans la section de bord périphérique du substrat frappant la pluralité de rouleaux, et d'une unité de calcul de vitesse de rotation qui calcule la vitesse de rotation du substrat sur la base des sons détectés par le microphone. 洗浄装置は、基板の周縁部を保持する複数のローラと、前記複数のローラを回転駆動することにより前記基板を回転させる回転駆動部と、前記基板に当接して当該基板の洗浄を行う洗浄部材と、前記基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、前記基板の周縁部のノッチが前記複数のローラに当たることで発生する音を検知するマイクロホンと、前記マイクロホンにより検知される音に基いて、前記基板の回転速度を算出する回転速度算出部と、を備える。