GAS DISTRIBUTION CERAMIC HEATER FOR DEPOSITION CHAMBER

Embodiments of a lid heater for a deposition chamber are provided herein. In some embodiments, a lid heater for a deposition chamber includes a ceramic heater body having a first side opposite a second side, wherein the ceramic heater body includes a first plurality of gas channels extending from one or more first gas inlets on the first side, wherein each of the one or more first gas inlets extend to a plurality of first gas outlets on the second side; a heating element embedded in the ceramic heater body; and an RF electrode embedded in the ceramic heater body proximate the second side, wherein the first plurality of gas channels extend through the RF electrode. La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, un dispositif de chauffage à couvercle destiné à une chambre de dépôt. Dans certains modes de réalisation, un dispositif de chauffage à couvercle destiné à une chambre de dépôt comprend un corps de dispositif de chauffage en céramique ayant un premier côté opposé à un second côté, le corps de dispositif de chauffage en céramique comprenant une première pluralité de conduites de gaz s'étendant à partir d'une ou de plusieurs premières entrées de gaz sur le premier côté, chaque première entrée de gaz s'étendant jusqu'à une pluralité de premières sorties de gaz sur le second côté ; un élément chauffant incorporé dans le corps de dispositif de chauffage en céramique ; et une électrode RF incorporée dans le corps de dispositif de chauffage en céramique à proximité du second côté, la première pluralité de conduites de gaz passant par l'électrode RF.