DETECTION AND LOCATION OF ANOMALOUS PLASMA EVENTS IN FABRICATION CHAMBERS

An apparatus to determine occurrence of an anomalous plasma event occurring at or near a process station of a multi-station integrated circuit fabrication chamber is disclosed. In particular embodiments, optical emissions generated responsive to the anomalous plasma event may be detected by at least one photosensor of a plurality of photosensors. A processor may cooperate with the plurality of photosensors to determine that the anomalous plasma event has occurred at or near by a particular process station of the multi-station integrated circuit fabrication chamber. L'invention concerne un appareil qui permet de déterminer l'apparition d'un événement de plasma anormal se produisant à une station de traitement ou à proximité d'une station de traitement d'une chambre de fabrication de circuits intégrés multi-station. Dans des modes de réalisation particuliers, des émissions optiques générées en réponse à l'événement de plasma anormal peuvent être détectées par au moins un capteur optique parmi une pluralité de capteurs optiques. Un processeur peut coopérer avec la pluralité de capteurs optiques afin de déterminer que l'événement de plasma anormal s'est produit à une station de traitement ou à proximité d'une station de traitement particulière de la chambre de fabrication de circuits intégrés multi-station.