SYSTEM AND METHOD FOR PROTECTING OPTICS FROM VACUUM ULTRAVIOLET LIGHT

A system for mitigating damage to optical elements caused by vacuum ultraviolet (VUV) light exposure is disclosed. The system includes a light source configured to generate VUV and a chamber containing one or more gaseous fluorine-based compounds of a selected partial pressure. The system includes one or more optical elements. The one or more optical elements are located within the chamber and are exposed to the one or more gaseous fluorine-based compounds. The VUV light generated by the light source is of sufficient energy to dissociate the fluorine-based compound within the chamber into a primary product. L'invention concerne un système permettant d'atténuer les dommages causés à des éléments optiques provoqués par une exposition à la lumière ultraviolette sous vide (VUV). Le système comprend une source de lumière configurée pour générer des VUV et une chambre contenant un ou plusieurs composés gazeux à base de fluor d'une pression partielle sélectionnée. Le système comprend un ou plusieurs éléments optiques. Le ou les éléments optiques sont situés à l'intérieur de la chambre et sont exposés au ou aux composés gazeux à base de fluor. La lumière VUV générée par la source de lumière est d'une énergie suffisante pour dissocier le composé à base de fluor à l'intérieur de la chambre en un produit primaire.