PROCESS FOR THE GENERATION OF METAL- OR SEMIMETAL-CONTAINING FILMS

The present invention is in the field of processes for preparing inorganic metal- or semimetal- containing films. The process for preparing inorganic metal- or semimetal-containing films comprising (a) depositing a metal- or semimetal-containing compound from the gaseous state onto a solid substrate and (b) bringing the solid substrate with the deposited metal- or semimetal-containing compound in contact with a compound of general formula (I) or (II) wherein Z is NR2, PR2, OR, SR, CR2, SiR2, X is H, R' or NR'2, wherein at least one X is H, n is 1 or 2, and R and R' is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a silyl group. La présente invention se rapporte au domaine des procédés de préparation de films contenant un métal ou un semi-métal inorganique. Le procédé de préparation de films contenant un métal ou un semi-métal inorganique comprend (a) le dépôt d'un composé contenant un métal ou un semi-métal à partir de l'état gazeux sur un substrat solide et (b) la mise en contact du substrat solide sur lequel est déposé le composé contenant un métal ou un semi-métal avec un composé de formule générale (I) ou (II) dans laquelle Z représente NR2, PR2, OR, SR, CR2, SiR2, et X représente H, R' ou NR'2, au moins un X représentant H, n valant 1 ou 2, et R et R' étant un groupe alkyle, un groupe alcényle, un groupe aryle ou un groupe silyle.