DEVICE AND METHOD FOR MEASURING SUBSTRATES FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY

The invention relates to a device (1) for measuring a substrate (8) for semiconductor lithography, comprising an illumination optical unit (4), an imaging optical unit (10) and a recording device (16) arranged in the image plane (15) of the imaging optical unit (10), a diffractive element (13) being arranged in the pupil (12) of the imaging optical unit (10). The invention also relates to a method for measuring a substrate (8) for semiconductor lithography with a measuring device (1), the measuring device (1) comprising an imaging optical unit (10) with a pupil (12), with the following method steps: - arranging a diffractive element (13) in the pupil (12) of the imaging optical unit (10) for producing a multifocal imaging (25, 30), - capturing the imaging (25, 30) of a partial region of the substrate (8), - evaluating the imaging (25, 30). L'invention concerne un dispositif (1) de mesure d'un substrat (8) pour la lithographie à semi-conducteur, comprenant une unité optique d'éclairage (4), une unité optique d'imagerie (10) et un dispositif d'enregistrement (16) disposé dans le plan d'image (15) de l'unité optique d'imagerie (10), un élément diffractif (13) étant disposé dans la pupille (12) de l'unité optique d'imagerie (10). L'invention concerne également un procédé de mesure d'un substrat (8) pour la lithographie à semi-conducteur avec un dispositif de mesure (1), le dispositif de mesure (1) comprenant une unité optique d'imagerie (10) avec une pupille (12), le procédé comprenant les étapes suivantes : - agencer un élément diffractif (13) dans la pupille (12) de l'unité optique d'imagerie (10) pour produire une imagerie multifocale (25, 30), - procéder à l'imagerie (25, 30) d'une zone partielle du substrat (8), - évaluer l'imagerie (25, 30).