PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN MULTILAYER BODY

The present invention provides a photosensitive resin multilayer body which is obtained by superposing, on a supporting film, a photosensitive resin layer containing a photosensitive resin composition that contains from 10% by mass to 90% by mass of (A) an alkali-soluble polymer, from 5% by mass to...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: YAMADA, Teruhisa, TAJIRI, Tonami, KOSAKA, Junya, KUNIMATSU, Shinichi
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention provides a photosensitive resin multilayer body which is obtained by superposing, on a supporting film, a photosensitive resin layer containing a photosensitive resin composition that contains from 10% by mass to 90% by mass of (A) an alkali-soluble polymer, from 5% by mass to 70% by mass of (B) a compound having an ethylenically unsaturated double bond and from 0.01% by mass to 20% by mass of (C) a photopolymerization initiator; the alkali-soluble polymer (A) contains a copolymer which contains, as a copolymerization component, a (meth)acrylate that has an alkyl group having from 3 to 12 carbon atoms; an acrylate monomer is contained, as the compound (B) having an ethylenically unsaturated double bond, in an amount of from 51% by mass to 100% by mass relative to the total amount of the compound (B) having an ethylenically unsaturated double bond; the absorbance A of the photosensitive resin layer containing the photosensitive resin composition at a wavelength of 365 nm, said photosensitive resin layer having a film thickness T (μm), satisfies the relational expression 0 < A/T ≤ 0.007; and the film thickness of the photosensitive resin layer containing the photosensitive resin composition is from 40 μm to 600 μm. La présente invention concerne un corps multicouche en résine photosensible qui est obtenu par superposition, sur un film de support, d'une couche de résine photosensible contenant une composition de résine photosensible qui contient de 10 % en masse à 90 % en masse (A) d'un polymère soluble dans les alcalis, de 5 % en masse à 70 % en masse (B) d'un composé ayant une double liaison éthyléniquement insaturée et de 0,01 % en masse à 20 % en masse (C) d'un initiateur de photopolymérisation ; le polymère soluble dans les alcalis (A) contenant un copolymère qui contient, en tant que constituant de copolymérisation, un (méth)acrylate qui comprend un groupe alkyle ayant de 3 à 12 atomes de carbone ; un monomère d'acrylate étant présent, en tant que composé (B) ayant une double liaison éthyléniquement insaturée, en une proportion de 51 % en masse à 100 % en masse par rapport à la quantité totale du composé (B) ayant une double liaison éthyléniquement insaturée ; l'absorbance A de la couche de résine photosensible contenant la composition de résine photosensible à une longueur d'onde de 365 nm, ladite couche de résine photosensible ayant une épaisseur de film T (µm), satisfaisant à l'expression relationnelle 0 < A/T ≤ 0,007 ; et l'épa