STEREOLITHOGRAPHY APPARATUS AND RESIN RECEPTACLE
A bottom-up stereolithography apparatus (SLA) (150) comprises a support surface (152) and a vat assembly (100) comprises a first frame part (110) having a first upper surface (112) and a circumferential first inner side surface (113) defining a recess (114) within the first frame part. The apparatus...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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