STEREOLITHOGRAPHY APPARATUS AND RESIN RECEPTACLE
A bottom-up stereolithography apparatus (SLA) (150) comprises a support surface (152) and a vat assembly (100) comprises a first frame part (110) having a first upper surface (112) and a circumferential first inner side surface (113) defining a recess (114) within the first frame part. The apparatus...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A bottom-up stereolithography apparatus (SLA) (150) comprises a support surface (152) and a vat assembly (100) comprises a first frame part (110) having a first upper surface (112) and a circumferential first inner side surface (113) defining a recess (114) within the first frame part. The apparatus comprises an air channel (115) opening to the recess (114) through the first inner side surface (113). A receptacle (130) comprising a bowl is placeable in the vat assembly with the bowl in the recess so that, with the thereby formed vat (101) placed on the support surface (152), air can be evacuated from the recess (114) via the air channel (115) to stretch the bowl (131) against the support surface and the first inner side surface (113).
Un appareil de stéréolithographie ascendant (SLA) (150) comprend une surface de support (152) et un ensemble cuve (100) comprend une première partie de cadre (110) ayant une première surface supérieure (112) et une première surface latérale interne circonférentielle (113) définissant un évidement (114) à l'intérieur de la première partie de cadre. L'appareil comprend un canal d'air (115) s'ouvrant sur l'évidement (114) à travers la première surface latérale interne (113). Un réceptacle (130) comprenant un bol peut être placé dans l'ensemble cuve avec le bol dans l'évidement de sorte que, avec la cuve ainsi formée (101) disposée sur la surface de support (152), de l'air peut être évacué de l'évidement (114) par l'intermédiaire du canal d'air (115) pour étirer le bol (131) contre la surface de support et la première surface latérale interne (113). |
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