ETCHING DEVICE FOR SILICON CORE WIRE AND ETCHING METHOD FOR SILICON CORE WIRE
Provided is a device capable of uniformly etching the entire surface of a silicon core wire. An etching device (1) for silicon core wires (C1, C2, C3) is provided with: etching solution tanks (11, 12) for holding etching solutions (L1, L2); multiple core wire support members (31), which are for supp...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!