METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING ORGANIC LAYERS

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von organischen Schichten auf einem Substrat (16), mit einer Gasmischeinrichtung (1), die ein oder mehrere Eingänge (2, 2') jeweils zum Einspeisen eines Gasflusses (F1, F2) bestehend aus von einem Trägergas geförderten zuvor verdampften org...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BINDEL, Jan Raphael, SUBRAMANIAM, Dinesh Kanna, KEIPER, Dietmar, GIESE, Hermann Albert, SCHÄFER, Tobias, GEORGI, Alexander, WURZINGER, Olaf Martin
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von organischen Schichten auf einem Substrat (16), mit einer Gasmischeinrichtung (1), die ein oder mehrere Eingänge (2, 2') jeweils zum Einspeisen eines Gasflusses (F1, F2) bestehend aus von einem Trägergas geförderten zuvor verdampften organischer Molekülen mit einer Molmasse größer 300 g/Mol oder 400 g/Mol, Gasumlenkelemente (7), die die organischen Moleküle durch mehrfaches Umlenken homogen im Trägergas mischen, und einen Ausgang (8), aus dem eine homogene Gasmischung austritt, aufweist, mit einer Förderleitung (9), die sich an den Ausgang (8) anschließt, und mit einem Gaseinlassorgan (10), das ein Gasverteilvolumen (11) aufweist, in welches die Förderleitung (9) mündet und welches eine Gasaustrittsöffnungen (12) aufweisende Gasaustrittsfläche (13') aufweist, die einem Substrathalter (15) zur Aufnahme des Substrates (16) gegenüberliegt. Die Erfindung betrifft darüber hinaus auch ein Verfahren zum Abscheiden von Schichten auf einem Substrat bei einer derartigen Vorrichtung. Um die laterale Homogenität der abgeschiedenen Schicht zu verbessern wird vorgeschlagen, dass die mittlere Strömungsgeschwindigkeit (Ʋ m ) in der Förderleitung (9) so gewählt wird, die Förderleitung (9) derart gestaltete Diffusionsbeeinflussungsmittel (25) aufweist oder am dem Gaseinlassorgan (10) zugewandten Ende der Förderleitung (9) eine Druckbarriere (20) derart vorgesehen ist, dass in der Förderleitung (9) eine in die Querschnittsmitte der Förderleitung (9) gerichtete, ein laterales inhomogenes Schichtwachstum verursachende, entmischende Diffusion der organischen Moleküle zumindest gehemmt, bevorzugt verhindert wird. The invention relates to an apparatus for depositing organic layers on a substrate (16), said apparatus comprising a gas-mixing device (1) which has: one or more inlets (2, 2'), each for supplying a gas flow (F1, F2) consisting of previously vapourised organic molecules that are conveyed by a carrier gas and have a molar mass greater than 300 g/mol or 400 g/mol; gas diversion elements (7) which homogeneously mix the organic molecules in the carrier gas by diverting said gas multiple times; and an outlet (8) from which a homogeneous gas mixture discharges. The apparatus also comprises a conveying pipe (9) which is connected to the outlet (8), and a gas inlet element (10) that has a gas distribution volume (11), into which the conveying pipe (9) leads and which has a gas outlet face (13') that has gas outlet openin