SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING PRINTABLE DEFECTS ON EXTREME ULTRAVIOLET PATTERN MASKS

A system for reducing printable defects on a pattern mask is disclosed. The system includes a controller configured to be communicatively coupled to a characterization sub-system, the controller including one or more processors configured to execute program instructions causing the one or more processors to: direct the characterization sub-system to perform inspection of a mask blank; generate a cost function based on a first characteristic and a second characteristic, the first characteristic comprising areas of defect regions exposed by mask patterns, the second characteristic comprising pattern complexity of a design pattern; determine one or more values indicative of a minimum of the cost function via a non-linear optimization procedure; and generate one or more control signals to adjust rotation and translation of the mask blank relative to the design pattern based on the determined one or more values indicative of the minimum of the cost function. L'invention concerne un système permettant de réduire les défauts imprimables sur un masque à motifs. Le système comprend un dispositif de commande conçu pour être couplé en communication à un sous-système de caractérisation, le dispositif de commande comprenant un ou plusieurs processeurs conçus pour exécuter des instructions de programme amenant le ou les processeurs à : diriger le sous-système de caractérisation de façon à ce qu'il effectue l'inspection d'une ébauche de masque ; générer une fonction de coût sur la base d'une première caractéristique et d'une seconde caractéristique, la première caractéristique comprenant des zones de régions de défaut exposées par des motifs de masque, la seconde caractéristique comprenant la complexité de motif d'un motif de conception ; déterminer une ou plusieurs valeurs indicatives d'un minimum de la fonction de coût par l'intermédiaire d'une procédure d'optimisation non linéaire ; et générer un ou plusieurs signaux de commande pour ajuster la rotation et la translation de l'ébauche de masque par rapport au motif de conception sur la base de la ou des valeurs déterminées indicatives du minimum de la fonction de coût.