GAS OUTLET ELEMENT OF A CVD REACTOR

Die Erfindung betrifft ein Gasauslassorgan zur Verwendung in einem CVD-Reaktor mit einem ringförmigen Oberteil (11) mit um eine Kreisfläche angeordneten Gasauslassöffnungen (7), wobei das Oberteil (11) mit einer sich parallel zur Kreisfläche erstreckenden Basisfläche (18) auf einem einen Gassammelkanal (8) ausbildenden Unterteil (12) sitzt. Zunächst wird vorgeschlagen, dass eine Prozesskammerwand (17) materialeinheitlich dem Oberteil (11) angeformt ist, welche an ihrem oberen Ende eine Schulter (19) aufweist, die in Radialeinwärtsrichtung die Gasauslassöffnungen (7) bezogen auf eine Richtung (S) parallel zu einer zentralen Achse (A) der Kreisfläche zumindest bereichsweise überragt, und die nach oben weisenden Abschnitte der Achsen (B) der Gasauslassöffnungen (7) zur Achse (A) geneigt sind. Ferner wird vorgeschlagen, dass das Oberteil (11) eine erste Schlitzwand (15) und das Unterteil (12) eine zur ersten Schlitzwand (15) parallel verlaufende zweite Schlitzwand (16) eines in Richtung zur Achse (A) der Kreisfläche offenen Schlitzes (14) ausbildet zur Aufnahme eines Randes einer Platte (10). The invention relates to a gas outlet element for use in a CVD reactor, comprising an annular upper part (11) with gas outlet openings (7) arranged about a circular surface. A base surface (18) of the upper part (11), said surface extending parallel to the circular surface, sits on a lower part (12) which forms a gas collecting channel (8). A process chamber wall (17) is first integrally formed on the upper part (11), wherein the process chamber wall has a shoulder (19) at the upper end of the process chamber wall, said shoulder projecting beyond the gas outlet openings (7) at least in some regions radially inwards with respect to a direction (S) parallel to a central axis (A) of the circular surface, and the gas outlet opening (7) axis (B) sections pointing upwards are inclined towards the axis (A). Furthermore, the upper part (11) forms a first slot wall (15) and the lower part (12) forms a second slot wall (16), which runs parallel to the first slot wall (15), of a slot (14), which is open in the direction of the axis (A) of the circular surface, for receiving an edge of a plate (10). L'invention concerne un organe de sortie de gaz s'utilisant dans un réacteur CVD qui comporte une partie supérieure (11) annulaire dotée d'orifices de sortie de gaz (7) ménagées autour d'une surface circulaire, la partie supérieure (11) siégeant sur une partie inférieure (12) formant un c