APPARATUS AND TECHNIQUES FOR ION ENERGY MEASUREMENT IN PULSED ION BEAMS

An apparatus may include a first beam sensor, disposed adjacent a first position along a beamline. The apparatus may further include a second beam sensor, disposed adjacent a second position along the beamline, at a predetermined distance, downstream of the first beam sensor. The apparatus may include a detection system, coupled to the first beam sensor and to the second beam sensor to receive from a pulsed ion beam a first electrical signal from the first beam sensor and a second electrical signal from the second beam sensor. Un appareil peut comprendre un premier capteur de faisceau, disposé adjacent à une première position le long d'une ligne de faisceau. L'appareil peut en outre comprendre un second capteur de faisceau, disposé adjacent à une seconde position le long de la ligne de faisceau, à une distance prédéterminée, en aval du premier capteur de faisceau. L'appareil peut comprendre un système de détection, couplé au premier capteur de faisceau et au second capteur de faisceau pour recevoir, d'un faisceau d'ions pulsés, un premier signal électrique provenant du premier capteur de faisceau et un second signal électrique provenant du second capteur de faisceau.