DETERMINING LITHOGRAPHIC MATCHING PERFORMANCE

A method for determining lithographic matching performance includes obtaining first monitoring data E1M, E3M, E4M from recurrent monitoring for stability control for the available EUV scanners EUV1, EUV3 and EUV4. For a DUV scanner, second monitoring data D2M, is similarly obtained from recurrent monitoring (DMW, MT, OV, SM) for stability control. The EUV monitoring data E1M, E3M, E4M are in a first layout. The DUV monitoring data D2M are in a second layout. A cross-platform overlay matching performance between the first lithographic apparatus and the second lithographic apparatus is determined based on the first monitoring data and the second monitoring data. This is done by reconstructing 900, 1000 at least one of the first and second monitoring data into a common layout E1S, E3S, E4S, D2S to allow comparison 802 of the first and second monitoring data. La présente invention concerne un procédé de détermination de performances de mise en correspondance lithographique qui comprend l'obtention de premières données de surveillance E1M, E3M, E4M à partir d'une surveillance récurrente pour une commande de la stabilité pour les scanners EUV disponibles UV1, EUV3 et EUV4. Pour un scanner DUV, des secondes données de surveillance D2M sont obtenues de façon similaire à partir d'une surveillance récurrente (DMW, MT, OV, SM) pour une commande de la stabilité. Les données de surveillance EUV E1M, E3M, E4M se trouvent dans une première configuration. Les données de surveillance DUV D2M se trouvent dans une seconde configuration. Des performances de mise en correspondance de superposition inter-plateformes entre le premier appareil lithographique et le second appareil lithographique sont déterminées sur la base des premières données de surveillance et des secondes données de surveillance. Ceci est réalisé par la reconstruction 900, 1000 d'au moins l'une des premières et secondes données de surveillance dans une configuration commune E1S, E3S, E4S, D2S pour permettre la comparaison 802 des premières et secondes données de surveillance.