METHOD FOR DETERMINING DEFECTIVENESS OF PATTERN BASED ON AFTER DEVELOPMENT IMAGE

Described herein is a method of training a model configured to predict whether a feature associated with an imaged substrate will be defective after etching of the imaged substrate and determining etch conditions based on the trained model. The method includes obtaining, via a metrology tool, (i) an after development image of the imaged substrate at a given location, the after development image including a plurality of features, and (ii) an after etch image of the imaged substrate at the given location; and training, using the after development image and the after etch image, the model configured to determine defectiveness of a given feature of the plurality of features in the after development image. In an embodiment, the determining of defectiveness is based on comparing the given feature in the after development image with a corresponding etch feature in the after etch image. L'invention concerne un procédé permettant d'entraîner un modèle conçu pour prédire si une caractéristique associée à un substrat imagé sera défectueuse après la gravure du substrat imagé et pour déterminer des conditions de gravure sur la base du modèle entraîné. Le procédé comprend les étapes suivantes : l'obtention, par l'intermédiaire d'un outil de métrologie, (i) d'une image post-développement du substrat imagé à un emplacement donné, l'image post-développement comprenant une pluralité de caractéristiques, et (ii) d'une image post-gravure du substrat imagé à l'emplacement donné; et l'entraînement, à l'aide de l'image post-développement et de l'image post-gravure, du modèle conçu pour déterminer une défectuosité d'une caractéristique donnée parmi la pluralité de caractéristiques dans l'image post-développement. Dans un mode de réalisation, la détermination de la défectuosité est basée sur la comparaison de la caractéristique donnée dans l'image post-développement avec une caractéristique de gravure correspondante dans l'image post-gravure.