OPTICAL FILM STRUCTURES AND ARTICLES FOR HIDDEN DISPLAYS AND DISPLAY DEVICES

An article is described herein that includes: a translucent substrate comprising opposing major surfaces; and an optical film structure disposed on a first major surface of the substrate, the optical film structure comprising an outer surface and a plurality of periods such that each period comprises an alternating low refractive index layer and high refractive index layer. The article exhibits a hardness of 10 GPa or greater measured at an indentation depth of about 100 nm by a Berkovich Indenter Hardness Test. Further, the article exhibits a single side average photopic light reflectance of at least 50% of non-polarized light as measured at the outer surface from near-normal incidence to an incident angle of 60 degrees over a portion of at least 10 nm within the visible spectrum. In addition, each low refractive index layer comprises SiO2 or doped-SiO2 and each high refractive index layer comprises AlOxNy, SiOxNy, SiuAlvOxNy, SiNx or ZrO2. L'invention concerne un article qui comprend : un substrat translucide comprenant des surfaces principales en regard ; et une structure de film optique disposée sur une première surface principale du substrat, la structure de film optique comprenant une surface externe et une pluralité de périodes de sorte que chaque période comprend en alternance une couche à faible indice de réfraction et une couche à indice de réfraction élevé. L'article présente une dureté supérieure ou égale à 10 GPa mesurée à une profondeur d'indentation d'environ 100 nm par un test de dureté d'indenteur Berkovich. En outre, l'article présente une réflectance lumineuse photopique moyenne latérale unique d'au moins 50 % de lumière non polarisée telle que mesurée au niveau de la surface externe à partir d'une incidence quasi normale jusqu'à un angle incident de 60 degrés sur une partie d'au moins 10 nm dans le spectre visible. De plus, chaque couche à faible indice de réfraction comprend du SiO2 ou du SiO2 dopé et chaque couche à indice de réfraction élevé comprend de l'AlOxNy, du SiOxNy, du SiuAlvOxNy, du SiNx ou du ZrO2.