MILLIMETER WAVE-ABSORBING STRUCTURE

Provided are a millimeter wave-absorbing structure, a method for producing the same, a millimeter wave absorption method, and a method for suppressing the reflection or scattering of millimeter waves. The millimeter wave-absorbing structure comprises a metal member (A) and a coating film (B) which is formed on the surface of the metal member (A) and is integrated with the metal member (A). The coating film (B) comprises a binder and a carbon particle body having a specific surface area of 30 m2/g or greater. The carbon particle body content is within a range of 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder. The specific gravity of the coating film (B) is within a range of 1.1 to 2.5 g/cm3 and the film thickness of the coating film is within a range of 100 to 400 µm. L'invention concerne une structure d'absorption d'ondes millimétriques, son procédé de production, un procédé d'absorption d'ondes millimétriques et un procédé de suppression de la réflexion ou de la diffusion d'ondes millimétriques. La structure d'absorption d'ondes millimétriques comprend un élément métallique (A) et un film de revêtement (B) qui est formé sur la surface de l'élément métallique (A) et est intégré à l'élément métallique (A). Le film de revêtement (B) comprend un liant et un corps de particules de carbone ayant une surface spécifique supérieure ou égale à 30 m2/g. La teneur en corps de particules de carbone se situe dans une plage comprise entre 1 et 100 parties en masse par rapport à 100 parties en masse du liant. La gravité spécifique du film de revêtement (B) se situe dans une plage comprise entre 1,1 et 2,5 g/cm3 et l'épaisseur de film du film de revêtement se situe dans une plage comprise entre 100 et 400 µm. ミリ波吸収性を有する構造体、その製造方法、ミリ波吸収方法及びミリ波の反射又は散乱を抑制する方法を提供する。 金属部材（Ａ）と、前記金属部材（Ａ）表面に形成され、前記金属部材（Ａ）と一体化してなる塗膜（Ｂ）とを含み、前記塗膜（Ｂ）が、比表面積が３０ｍ２／ｇ以上のカーボン粉粒体及び結合剤を含み、カーボン粉粒体の含有量が結合剤１００質量部を基準として１～１００質量部の範囲内にあり、塗膜（Ｂ）の比重が１．１～２．５ｇ／ｃｍ３の範囲内、膜厚が１００～４００μｍの範囲内にある、ミリ波吸収性を有する構造体。