ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, RESIST FILM, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD

Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with which a pattern having excellent LWR performance can be obtained even when the composition has been stored for a long period of time. Also provided are a resist film, a pattern formation method, and an electronic device production method that involve the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition. This actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains an acid-decomposable resin and a specific compound, wherein the specific compound has two or more cationic moieties, and an equal number of anionic moieties as the cationic moieties, and at least one of the cationic moieties has a group represented by general formula (I). L'invention concerne une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement permettant d'obtenir un motif ayant d'excellentes performances LWR même lorsque la composition ayant été stockée pendant une longue période de temps. L'invention concerne également un film de réserve, un procédé de formation de motif et un procédé de production d'un dispositif électronique impliquant la composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement. Cette composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement contient une résine décomposable par un acide et un composé spécifique, le composé spécifique ayant deux fractions cationiques ou plus, et un nombre égal de fractions anioniques en tant que fractions cationiques, et au moins l'une des fractions cationiques ayant un groupe représenté par la formule générale (I). 長期間保存をした場合でもＬＷＲ性能に優れるパターンを得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に関する、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸分解性樹脂と、特定化合物と、を含み、特定化合物は、２つ以上のカチオン部位、及び、カチオン部位と同数のアニオン部位を有し、カチオン部位の少なくとも１つが一般式（Ｉ）で表される基を有する。