TUNEABLE UNIFORMITY CONTROL UTILIZING ROTATIONAL MAGNETIC HOUSING

Embodiments described herein provide magnetic and electromagnetic housing systems and a method for controlling the properties of plasma generated in a process volume of a process chamber to affect deposition properties of a film. In one embodiment, the method includes rotation of the rotational magnetic housing about a center axis of the process volume to create dynamic magnetic fields. The magnetic fields modify the shape of the plasma, concentration of ions and radicals, and movement of concentration of ions and radicals to control the density profile of the plasma. Controlling the density profile of the plasma tunes the uniformity and properties of a deposited or etched film. La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, des systèmes de boîtier magnétiques et électromagnétiques et un procédé de commande des propriétés d'un plasma généré dans un volume de traitement d'une chambre de traitement pour modifier les propriétés de dépôt d'un film. Dans un mode de réalisation, le procédé comprend la rotation du boîtier magnétique rotatif autour d'un axe central du volume de traitement pour créer des champs magnétiques dynamiques. Les champs magnétiques modifient la forme du plasma, la concentration d'ions et de radicaux, et le mouvement de concentration des ions et des radicaux pour commander le profil de densité du plasma. La commande du profil de densité du plasma règle l'uniformité et les propriétés d'un film déposé ou gravé.