HEATED SUBSTRATE SUPPORT WITH THERMAL BAFFLES

Embodiments of substrate supports for use in a process chamber are provided herein. In some embodiments a substrate support for use in a process chamber includes a pedestal having an upper surface for supporting a substrate and an opposite lower surface, a first heater disposed within the pedestal between the upper surface and the lower surface, and thermal baffles having a plurality of voids that are fluidly isolated from each other disposed between the first heater and the lower surface to reduce heat transfer from the first heater to the lower surface of the pedestal. Des modes de réalisation de supports de substrat destinés à être utilisés dans une chambre de traitement sont décrits dans la description. Dans certains modes de réalisation, un support de substrat destiné à être utilisé dans une chambre de traitement comprend un socle ayant une surface supérieure pour supporter un substrat et une surface inférieure opposée, un premier élément chauffant disposé à l'intérieur du socle entre la surface supérieure et la surface inférieure, et des déflecteurs thermiques ayant une pluralité de vides qui sont isolés fluidiquement les uns des autres disposés entre le premier élément chauffant et la surface inférieure pour réduire le transfert de chaleur du premier élément chauffant à la surface inférieure du socle.