METHODS AND APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING MICROWAVE ENERGY

Methods and apparatus for processing a substrate are provided herein. The apparatus can include, for example, a microwave energy source configured to provide microwave energy from beneath a substrate support provided in an inner volume of the process chamber; a first microwave reflector positioned on the substrate support above a substrate supporting position of the substrate support; and a second microwave reflector positioned on the substrate support beneath the substrate supporting position, wherein the first microwave reflector and the second microwave reflector are positioned and configured such that microwave energy passes through the second microwave reflector and some of the microwave energy is reflected from a bottom surface of the first microwave reflector back to the substrate during operation. L'invention concerne des procédés et un appareil de traitement de substrat. L'appareil peut comprendre, par exemple, une source d'énergie micro-onde configurée pour fournir de l'énergie micro-onde à partir du dessous d'un support de substrat disposé dans un volume interne de la chambre de traitement ; un premier réflecteur de micro-onde positionné sur le support de substrat au-dessus d'une position de support de substrat du support de substrat ; et un second réflecteur de micro-onde positionné sur le support de substrat en dessous de la position de support de substrat, le premier réflecteur de micro-onde et le second réflecteur de micro-onde étant positionnés et configurés de telle sorte que l'énergie micro-onde passe à travers le second réflecteur de micro-onde et une partie de l'énergie de micro-onde est réfléchie à partir d'une surface inférieure du premier réflecteur de micro-onde vers le substrat pendant le fonctionnement.