METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM

The present invention provides a method for producing an optical film which comprises a substrate and an optically anisotropic layer, while exhibiting excellent adhesion between the substrate and the optically anisotropic layer, and which is suppressed in alignment defects of the optically anisotropic layer. A method for producing an optical film according to the present invention comprises: a step 1 for imparting a substrate surface with an alignment controlling force; and a step 2 wherein a polymerizable liquid crystal composition, which contains a polymerizable liquid crystal compound and a solvent, is applied onto a substrate, and the polymerizable liquid crystal compound is aligned and subsequently the alignment state of the polymerizable liquid crystal compound is immobilized, thereby forming an optically anisotropic layer. With respect to this method for producing an optical film, the mass change ratio as determined by formula (1) is from 0.1% by mass to 1.5% by mass. Formula (1): (Mass change ratio) = ((WB - WA)/WA) × 100 In the formula, WA represents the dry mass of the substrate, and WB represents the wet mass of the substrate after being immersed in the solvent. La présente invention concerne un procédé de production d'un film optique qui comprend un substrat et une couche optiquement anisotrope, tout en présentant une excellente adhérence entre le substrat et la couche optiquement anisotrope, et qui est supprimé dans des défauts d'alignement de la couche optiquement anisotrope. Un procédé de production d'un film optique selon la présente invention comprend : une étape 1 pour conférer une surface de substrat à une force de commande d'alignement ; et une étape 2 dans laquelle une composition de cristaux liquides polymérisable, qui contient un composé de cristaux liquides polymérisable et un solvant, est appliqué sur un substrat et le composé de cristaux liquides polymérisable est aligné, puis l'état d'alignement du composé de cristaux liquides polymérisable est immobilisé, formant ainsi une couche optiquement anisotrope. Par rapport à ce procédé de production d'un film optique, le rapport de changement de masse tel que déterminé par la formule (1) est de 0,1 % en masse à 1,5 % en masse Formule (1) : (Rapport de changement de masse) = ((WB - WA)/WA) × 100. Dans la formule, WA représente la masse sèche du substrat et WB représente la masse humide du substrat après avoir été immergé dans le solvant. 本発明は、基板と光学異方性層とを含み、光学異方性層の配向欠陥が抑制され、かつ、基板と光学異方性層との