SUBSTRATE HOLDER, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD

The present invention provides a substrate holder for supporting a substrate, a lithographic apparatus comprising the substrate holder and a method of supporting the substrate. The substrate holder comprises a main body, a plurality of supporting pins, and a plate. The plate is positioned between a surface of the main body and a support surface formed by the plurality of supporting pins. The plate is actuatable in a direction along the plurality of supporting pins between the surface of the main body and the support surface. The substrate holder may also comprise a main body, a flexible member and a fixed member protruding from a surface of the main body. The flexible member defines an enclosed cavity therein and configured to form a seal with the substrate supported on the substrate holder. The substrate holder is configured to reduce pressure in the enclosed cavity of the flexible member. La présente invention concerne un porte-substrat pour supporter un substrat, un appareil lithographique comprenant le porte-substrat et un procédé de support du substrat. Le porte-substrat comprend un corps principal, une pluralité de broches de support et une plaque. La plaque est positionnée entre une surface du corps principal et une surface de support formée par la pluralité de broches de support. La plaque peut être actionnée dans une direction le long de la pluralité de broches de support entre la surface du corps principal et la surface de support. Le porte-substrat peut également comprendre un corps principal, un élément flexible et un élément fixe faisant saillie à partir d'une surface du corps principal. L'élément flexible délimite une cavité fermée en son sein et est conçu pour former un joint d'étanchéité avec le substrat supporté sur le porte-substrat. Le porte-substrat est conçu pour réduire la pression dans la cavité fermée de l'élément flexible.