APPARATUS AND SYSTEM HAVING EXTRACTION ASSEMBLY FOR WIDE ANGLE ION BEAM

An ion beam processing apparatus may include a plasma chamber, and a plasma plate, disposed alongside the plasma chamber, where the plasma plate defines a first extraction aperture. The apparatus may include a beam blocker, disposed within the plasma chamber and facing the extraction aperture. The apparatus may further include a non-planar electrode, disposed adjacent the beam blocker and outside of the plasma chamber; and an extraction plate, disposed outside the plasma plate, and defining a second extraction aperture, aligned with the first extraction aperture. L'invention concerne un appareil de traitement par faisceau ionique qui peut comprendre une chambre à plasma, et une plaque de plasma, disposée le long de la chambre à plasma, la plaque de plasma formant une première ouverture d'extraction. L'appareil peut comprendre un dispositif de blocage de faisceau, disposé à l'intérieur de la chambre à plasma et faisant face à l'ouverture d'extraction. L'appareil peut en outre comprendre une électrode non plane, disposée à proximité du dispositif de blocage de faisceau et à l'extérieur de la chambre à plasma ; et une plaque d'extraction, disposée à l'extérieur de la plaque de plasma, et formant une seconde ouverture d'extraction, alignée avec la première ouverture d'extraction.