MONOMER, RESIN FOR PHOTORESIST, RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST, AND PATTERN FORMING METHOD

Provided is a monomer that imparts higher heat resistance to a resin while improving solubility in an organic solvent, hydrolyzability, and solubility in water after hydrolysis. This resin for photoresist contains a polymerization unit represented by formula (Y) [in the formula, Rh represents a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group which has a halogen atom. R1 is a substituent bonded to a ring, and represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group which may have a halogen atom, a C1-C6 hydroxyalkyl group which may have a halogen atom, and of which the hydroxyl group moiety may be protected by a protecting group, a carboxyl group which may form a salt, or a substituted oxycarbonyl group. A represents a C1-C6 alkylene group, an oxygen atom, a sulfur atom, or non-bonding. m is the number of R1's, and represents an integer of 0-8. X represents an electron-withdrawing substituent, and n is the number of X's, and represents an integer of 1-9. B represents a single bond or a linking group. The three-dimensional position of a COOB- group bonded to a polymer chain may be either endo or exo.]. L'invention concerne un monomère qui confère une résistance à la chaleur supérieure à une résine tout en améliorant la solubilité dans un solvant organique, la capacité d'hydrolyse et la solubilité dans l'eau après hydrolyse. Cette résine pour résine photosensible contient une unité de polymérisation représentée par la formule (Y) [dans la formule, Rh représente un atome d'halogène, ou un groupe alkyle en C1-C6 qui a un atome d'halogène. R1 représente un substituant lié à un cycle, et représente un atome d'halogène, un groupe alkyle en C1-C6 qui peut avoir un atome d'halogène, un groupe hydroxyalkyle en C1-C6 qui peut avoir un atome d'halogène, et dont la fraction de groupe hydroxyle peut être protégée par un groupe protecteur, un groupe carboxyle qui peut former un sel, ou un groupe oxycarbonyle substitué. A représente un groupe alkylène en C1-C6, un atome d'oxygène, un atome de soufre ou une absence de liaison. m est le nombre de R1, et représente un nombre entier compris entre 0 et 8. X représente un substituant attracteur d'électrons, et n est le nombre de X, et représente un nombre entier compris entre 1 et 9. B représente une simple liaison ou un groupe de liaison. La position tridimensionnelle d'un groupe COOB lié à une chaîne polymère peut être soit endo soit exo. ]. 有機溶剤に対する溶解性、加水分解性、加水分解後の水に対する溶解性を向上しつつ、さらに高い耐熱性を樹脂に付与する単量体を提供する。下記式（Ｙ）［式中、Ｒhはハロゲン原子又はハロゲン原子を有する炭素数１～６のアルキル基