INTEGRATED ELECTROHYDRODYNAMIC JET PRINTING AND SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION SYSTEM FOR AREA-SELECTIVE ATOMIC LAYER DEPOSITION

An integrated electrohydrodynamic jet printing and spatial atomic layer deposition system for conducting nanofabrication includes an electrohydrodynamic jet printing station that includes an E-jet printing nozzle, a spatial atomic layer deposition station that includes a zoned ALD precursor gas distributor that discharges linear zone-separated first and second ALD precursor gases, a heatable substrate plate supported on a motion actuator controllable to move the substrate plate in three dimensions, and a conveyor on which the motion actuator is supported. The conveyor is operative to move the motion actuator between the electrohydrodynamic jet printing station and the spatial atomic layer deposition station so that the substrate plate is conveyable between a printing window of the E-jet printing nozzle and a deposition window of the zoned ALD precursor gas distributor, respectively. A method of conducting area-selective atomic layer deposition is also disclosed. La présente invention concerne un système intégré, d'impression par jet d'encre électrohydrodynamique et de dépôt par couche atomique spatiale pour la réalisation d'une nanofabrication, qui comprend une station d'impression par jet d'encre électrohydrodynamique qui comprend une buse d'impression par jet d'encre électrohydrodynamique (E-jet), une station de dépôt par couche atomique spatiale qui comprend un distributeur de gaz de précurseurs de dépôt par couche atomique (ALD) répartis en zones qui évacue des premier et second gaz de précurseurs d'ALD séparés en fonction des zones linéaires, une plaque de substrat pouvant être chauffée supportée sur un actionneur de mouvement pouvant être commandé pour déplacer la plaque de substrat dans les trois dimensions et un transporteur sur lequel est supporté l'actionneur de mouvement. Le transporteur est destiné à déplacer l'actionneur de mouvement entre la station d'impression par jet d'encre électrohydrodynamique et la station de dépôt par couche atomique spatiale de sorte que la plaque de substrat peut être transportée entre une fenêtre d'impression de la buse d'impression par jet d'encre électrohydrodynamique (E-jet) et une fenêtre de dépôt du distributeur de gaz de précurseurs d'ALD répartis en zones, respectivement. L'invention concerne également un procédé de mise en œuvre d'un dépôt par couche atomique sélective en fonction de la surface.