IN SITU REAL-TIME SENSING AND COMPENSATION OF NON-UNIFORMITIES IN SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Systems and methods of the disclosure perform in situ sensing and real time compensation of various non-uniformities in substrate processing systems. A plasma non-uniformity is sensed by determining a temperature distribution across a matrix of a plurality of micro-heaters disposed in the substrate support. Alternatively, the plasma non-uniformity is sensed by determining heat flux through the substrate support using the matrix heaters and one or more heaters used to heat one or more zones of the substrate support. The plasma non-uniformity is compensated by adjusting one or more parameters such as power supplied to the matrix heaters, RF power supplied to generate plasma, chemistry and/or flow rate of gas or gases used to generate plasma, settings of thermal control units or chillers, and so on. Additionally, non-uniformities inherent in the substrate support are sensed using the zone and matrix heaters and are compensated by adjusting the one or more parameters. Systèmes et procédés réalisant une détection in situ et une compensation en temps réel de diverses non-uniformités dans des systèmes de traitement de substrat. Une non-uniformité de plasma est détectée par détermination d'une distribution de température à travers une matrice d'une pluralité de micro-éléments chauffants disposés dans le support de substrat. En variante, la non-uniformité de plasma est détectée par la détermination d'un flux thermique à travers le support de substrat à l'aide des éléments chauffants de matrice et d'un ou plusieurs éléments chauffants utilisés pour chauffer une ou plusieurs zones du support de substrat. La non-uniformité de plasma est compensée par l'ajustement d'un ou de plusieurs paramètres tels que l'énergie fournie aux éléments chauffants de matrice, l'énergie RF apportée pour générer du plasma, de la chimie et/ou le débit du gaz ou des gaz utilisés pour générer du plasma, des réglages d'unités de commande thermique ou des refroidisseurs, etc. De plus, les non-uniformités inhérentes au support de substrat sont détectées à l'aide des éléments chauffants de zone et de matrice et sont compensées par l'ajustement du ou des paramètres.