METHODS AND APPARATUS FOR POST EXPOSURE PROCESSING
Embodiments described herein relate to methods and apparatus for post exposure processing. More specifically, embodiments described herein relate to field-guided post exposure bake (iFGPEB) chambers and processes, In one embodiment, a substrate is transferred into a post exposure process chamber and...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Embodiments described herein relate to methods and apparatus for post exposure processing. More specifically, embodiments described herein relate to field-guided post exposure bake (iFGPEB) chambers and processes, In one embodiment, a substrate is transferred into a post exposure process chamber and then raised to a pre-processing position by a plurality of lift pins. A substrate support is then raised to engage with the substrate and vacuum chuck the substrate thereon prior to iFGPEB processing.
Des modes de réalisation de la présente invention concernent des procédés et un appareil pour un traitement post-exposition. Plus spécifiquement, des modes de réalisation de la présente invention concernent des chambres de cuisson post-exposition guidée par champ (iFGPEB) et des processus associés. Dans un mode de réalisation, un substrat est transféré dans une chambre de traitement post-exposition puis soulevé jusqu'à une position de pré-traitement par une pluralité de broches de levage. Un support de substrat est ensuite soulevé pour venir en prise avec le substrat et fixer celui-ci à l'aide d'un mandrin sous vide avant le traitement iFGPEB. |
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