NON-CORRECTABLE ERROR IN METROLOGY

Apparatus and methods for determining a focus error for a lithographic apparatus and/or a difference between first and second metrology data. The first and/or second metrology data comprising a plurality of values of a parameter relating to a substrate, the substrate including a plurality of fields comprising device topology., Apparatus may comprise a processor configured to execute computer program code to undertake the method of: determining an intra-field component of the parameter; removing the determined intra-field component from the first metrology data to obtain an inter-field component of the first metrology data; and determining the difference between the first metrology data and second metrology data based on the inter-field component and the second metrology data. La présente invention concerne un appareil et des procédés pour déterminer une erreur de focalisation pour un appareil lithographique et/ou une différence entre des première et seconde données de métrologie. Les première et/ou seconde données de métrologie comprennent une pluralité de valeurs d'un paramètre relatif à un substrat, le substrat comprenant une pluralité de champs comprenant une topologie de dispositif. L'appareil peut comprendre un processeur configuré pour exécuter un code de programme d'ordinateur pour entreprendre le procédé suivant : la détermination d'une composante intra-champ du paramètre ; l'élimination de la composante intra-champ déterminée à partir des premières données de métrologie pour obtenir une composante inter-champ des premières données de métrologie ; et la détermination de la différence entre les premières données de métrologie et les secondes données de métrologie sur la base de la composante inter-champ et des secondes données de métrologie.