APPARATUS FOR PHOTORESIST DRY DEPOSITION

Systems and techniques for dry deposition of extreme ultraviolet-sensitive (EUV-sensitive) photoresist layers are discussed. In some such systems, a processing chamber may be provided that features a multi-plenum showerhead that is configured to receive a vaporized organometallic precursor in one plenum and a vaporized counter-reactant thereof in another plenum. The two vaporized reactants may be delivered to a reaction space within the processing chamber and over a wafer support that supports the substrate. L'invention concerne des systèmes et des techniques pour le dépôt à sec de couches de photorésine sensible aux ultraviolets extrêmes (sensible aux EUV). Dans certains de ces systèmes, une chambre de traitement peut être prévue, celle-ci comprenant une pomme de douche à multiples plénums qui est conçue pour recevoir un précurseur organométallique vaporisé dans un plénum et un contre-réactif vaporisé de celui-ci dans un autre plénum. Les deux réactifs vaporisés peuvent être distribués dans un espace de réaction à l'intérieur de la chambre de traitement et sur un support de tranche qui supporte le substrat.