METHODS FOR PRODUCING CHELATING AGENT-CONTAINING WATER GLASS AND SILICA SOL
[Problem] To provide a method for heating anhydrous sodium silicate (cullet), a chelating agent, and water to obtain a sodium silicate aqueous solution and a method for producing a high-purity silica sol using the sodium silicate aqueous solution (water glass). [Solution] A method for producing a so...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | [Problem] To provide a method for heating anhydrous sodium silicate (cullet), a chelating agent, and water to obtain a sodium silicate aqueous solution and a method for producing a high-purity silica sol using the sodium silicate aqueous solution (water glass). [Solution] A method for producing a sodium silicate aqueous solution that heats and mixes anhydrous sodium silicate, a chelating agent, and water at 100-270°C. A method for producing a sodium silicate aqueous solution that heats and mixes anhydrous sodium silicate and a chelating agent-containing aqueous solution at 100-270°C. A method for producing a sodium silicate aqueous solution in which the chelating agent is 0.1-3000 ppm relative to SiO2. A method for producing a silica sol that includes a step (a): a step for bringing a sodium silicate aqueous solution obtained by the above production method into contact with a cation-exchange resin and obtaining an active silicic acid aqueous solution, a step (b): a step for heating the active silicic acid aqueous solution obtained in step (a) to obtain a silica sol, and a step (c): a step for ultrafiltering the silica sol obtained in step (b).
Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de chauffage de silicate sodique anhydre (calcin), un agent chélatant et de l'eau pour obtenir une solution aqueuse de silicate sodique et un procédé de production d'un sol siliceux de haute pureté à l'aide de la solution aqueuse de silicate sodique (verre soluble). Selon l'invention, la solution porte sur un procédé de production d'une solution aqueuse de silicate sodique par chauffage et mélange du silicate sodique anhydre, d'un agent chélatant et d'eau dans une plage de 100 à 270 °C. La solution porte également sur un procédé de production d'une solution aqueuse de silicate sodique par chauffage et mélange du silicate sodique anhydre et d'une solution aqueuse contenant un agent chélatant dans une plage de 100 à 270 °C. L'invention concerne également un procédé de production d'une solution aqueuse de silicate sodique dans laquelle l'agent chélatant représente de 0,1 à 3000 ppm par rapport au SiO2. L'invention concerne également un procédé de production d'un sol siliceux qui comprend : une étape (a) de mise en contact d'une solution aqueuse de silicate sodique obtenue par le procédé de production ci-dessus avec une résine échangeuse de cations et d'obtention d'une solution aqueuse d'acide silicique active ; une étape (b) de chauffage de la soluti |
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