SYSTEM AND METHOD FOR FOCAL POSITION CONTROL

Die Erfindung betrifft eine Strahlanalysevorrichtung zur Bestimmung eines Lichtstrahl-Zustandes, insbesondere zur Bestimmung der Fokuslage eines Lichtstrahls. Die Strahlanalysevorrichtung umfasst eine Teilstrahl-Abbildungsvorrichtung (10) mit wenigstens einer ersten Selektionsvorrichtung (11) zur Bildung eines ersten Teilstrahls (41) aus einem ersten Teil-Aperturbereich des ersten Messstrahls (40), und eine Abbildungseinrichtung (16) zur Abbildung des ersten Teilstrahls (41) zur Erzeugung eines ersten Strahlflecks (45) auf eine Detektoreinheit (20) mit einem ortsauflösenden Detektor (21). Ferner umfasst die Strahlanalysevorrichtung eine Auswertungseinheit (25) zur Verarbeitung der Signale der Detektoreinheit (20), zur Bestimmung einer lateralen Position (a1) des ersten Strahlflecks (45), und zur Bestimmung von zeitlichen Änderungen der lateralen Position (a1, a1') des ersten Strahlflecks (45, 45'). Die Erfindung betrifft auch ein Optisches System zur Fokuslagen-Kontrolle mit einer Laseroptik (60) und mit einer Strahlanalysevorrichtung. Die Erfindung betrifft auch ein entsprechendes Strahlanalyseverfahren sowie Verfahren zur Fokuslagen-Kontrolle einer Laseroptik und zur Fokuslagen-Nachführung einer Laseroptik. The invention relates to a beam analysis device for determining a light beam state, in particular for determining the focal position of a light beam. The beam analysis device comprises a partial beam imaging device (10) having at least one first selection device (11) for forming a first partial beam (41) from a first partial aperture region of the first measurement beam (40), and an imaging unit (16) for imaging the first partial beam (41) for producing a first beam spot (45) on a detector unit (20) having a spatially resolving detector (21). Furthermore, the beam analysis device comprises an evaluation unit (25) for processing the signals of the detector unit (20), for determining a lateral position (a1) of the first beam spot (45), and for determining changes in the lateral position (a1, a1') of the first beam spot (45, 45') over time. The invention also relates to an optical system for focal position control with a laser optical unit (60) and with a beam analysis device. The invention also relates to a corresponding beam analysis method and methods for focal position control of a laser optical unit and for focal position tracking of a laser optical unit. L'invention concerne un dispositif d'analyse de faisceau pour déterminer un état d'un faisceau