METHOD OF FORMING A SPUTTERING TARGET

Aspects of the subject disclosure may include, for example, a method in which a selection is made for a first major constituent, a second major constituent and a minor constituent for forming a desired material. The method can include mixing the first major constituent, the second major constituent and the minor constituent in a single mixing step to provide a mixture of constituents. The method can include drying the mixture of constituents to provide a dried mixture of constituents and calcining the dried mixture of constituents to provide a calcinated mixture of constituents. The method can include processing the calcinated mixture of constituents (by a process including vacuum annealing and hot-pressing) to provide a sputtering target. Other embodiments are disclosed. Des aspects de la présente invention peuvent comprendre, par exemple, un procédé selon lequel une sélection est effectuée pour un premier constituant majeur, un second constituant majeur et un constituant mineur pour former un matériau souhaité. Le procédé peut consister à mélanger le premier constituant majeur, le second constituant majeur et le constituant mineur dans une seule étape de mélange afin de fournir un mélange de constituants. Le procédé peut consister à sécher le mélange de constituants afin de fournir un mélange séché de constituants et à calciner le mélange séché de constituants afin de fournir un mélange calciné de constituants. Le procédé peut consister à traiter le mélange calciné de constituants (par un procédé consistant à effectuer un recuit sous vide et un pressage à chaud) afin de fournir une cible de pulvérisation. L'invention concerne également d'autres modes de réalisation.