IMAGE SENSOR FOR IMMERSION LITHOGRAPHY

An image sensor (17) for immersion lithography, the image sensor comprising: a grating (310, 320 and 330); an absorber layer (350) on the grating, the absorber layer configured to absorb radiation; and a liquidphobic coating (400) at an upper surface of the image sensor; wherein a protective layer (500) is provided between the absorber layer and the liquidphobic layer, the protective layer being less reactive than the absorber layer to an immersion liquid. La présente invention concerne un capteur d'image (17) pour lithographie par immersion, le capteur d'image comprenant : un réseau de diffraction (310, 320 et 330) ; une couche d'absorbeur (350) située sur le réseau, la couche d'absorbeur étant conçue pour absorber un rayonnement ; et un revêtement repoussant les liquides (400) situé au niveau d'une surface supérieure du capteur d'image ; une couche protectrice (500) étant disposée entre la couche d'absorbeur et la couche repoussant les liquides, la couche protectrice étant moins réactive à un liquide d'immersion que la couche d'absorbeur.