DEFECT CANDIDATE GENERATION FOR INSPECTION
Systems and methods for detecting defect candidates on a specimen are provided. One method includes, after scanning of at least a majority of a specimen is completed, applying one or more segmentation methods to at least a substantial portion of output generated during the scanning thereby generatin...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Systems and methods for detecting defect candidates on a specimen are provided. One method includes, after scanning of at least a majority of a specimen is completed, applying one or more segmentation methods to at least a substantial portion of output generated during the scanning thereby generating two or more segments of the output. The method also includes separately detecting outliers in the two or more segments of the output. In addition, the method includes detecting defect candidates on the specimen by applying one or more predetermined criteria to results of the separately detecting to thereby designate a portion of the detected outliers as the defect candidates.
L'invention concerne des systèmes et des procédés de détection de candidats de défauts sur un échantillon. Un procédé comprend, après l'achèvement du balayage d'au moins la majorité d'un échantillon, l'application d'un ou plusieurs procédés de segmentation à au moins une partie substantielle d'une sortie générée pendant le balayage, ce qui permet de générer au moins deux segments de la sortie. Le procédé comprend également la détection séparée de valeurs aberrantes dans lesdits segments de la sortie. De plus, le procédé comprend la détection de candidats de défauts sur l'échantillon par l'application d'un ou plusieurs critères prédéterminés aux résultats de la détection séparée ce qui permet de désigner une partie des valeurs aberrantes détectées en tant que candidats de défaut. |
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