METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
The present invention addresses the first problem of providing a method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, by which a pattern having excellent LWR can be formed even in cases where the resin composition is prepared using a procedure comprising prepa...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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| creator | MARUMO Kazuhiro |
| description | The present invention addresses the first problem of providing a method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, by which a pattern having excellent LWR can be formed even in cases where the resin composition is prepared using a procedure comprising preparing in advance a polymer solution containing an acid-dissociable resin and a solvent, storing the polymer solution for a prescribed period of time, and then mixing the polymer solution with other raw materials such as a photo-acid generator. In addition, the present invention addresses the second problem of providing: a method for forming a pattern by using an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition obtained using the production method; and a method for producing an electronic device. This method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a step A for preparing a polymer solution that contains a solvent and a resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid; a step B for producing a solution-accommodating body which includes an accommodating container and the polymer solution housed in the accommodating container, and in which the content of an inert gas is 85 vol% or more of the space inside the accommodating container that is not filled with the polymer solution, and for storing the polymer solution in the solution-accommodating body; and a step C for mixing the polymer solution stored in the solution-accommodating body with a compound that generates an acid upon irradiation with active light rays or radiation. The resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid is a resin that includes a prescribed structure.
La présente invention aborde le premier problème consistant à fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement, grâce à laquelle un motif ayant un excellent LWR peut être formé même dans les cas où la composition de résine est préparée à l'aide d'une procédure comprenant la préparation à l'avance d'une solution de polymère contenant une résine dissociable par un acide et un solvant, le stockage de la solution de polymère pendant une période de temps prescrite, puis le mélange de la solution de polymère avec d'autres matières premières telles qu'un générateur de photo-acide. De plus, la présente invention aborde le second problème consista |
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La présente invention aborde le premier problème consistant à fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement, grâce à laquelle un motif ayant un excellent LWR peut être formé même dans les cas où la composition de résine est préparée à l'aide d'une procédure comprenant la préparation à l'avance d'une solution de polymère contenant une résine dissociable par un acide et un solvant, le stockage de la solution de polymère pendant une période de temps prescrite, puis le mélange de la solution de polymère avec d'autres matières premières telles qu'un générateur de photo-acide. De plus, la présente invention aborde le second problème consistant à fournir : un procédé de formation d'un motif à l'aide d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement obtenue à l'aide du procédé de production ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Le présent procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement comprend une étape A de préparation d'une solution de polymère qui contient un solvant et une résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide ; une étape B de production d'un corps de réception de solution qui comprend un récipient de réception et la solution de polymère logée dans le récipient de réception, et dans lequel la teneur en gaz inerte est de 85 % en volume ou plus de l'espace à l'intérieur du récipient de réception qui n'est pas rempli avec la solution de polymère, et de stockage de la solution de polymère dans le corps de réception de solution ; et une étape C de mélange de la solution de polymère stockée dans le corps de réception de solution avec un composé qui génère un acide lors de l'irradiation avec des rayons de lumière active ou un rayonnement. La résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide est une résine qui comprend une structure prescrite.
本発明の第１の課題は、酸分解性樹脂と溶剤とを含むポリマー溶液を予め調製して所定期間保管した後、上記ポリマー溶液と光酸発生剤を含むその他の原料とを混合する手順で調製された場合であっても、ＬＷＲが優れるパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。また、本発明の第２の課題は、上記製造方法により得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法は、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と、溶剤とを含むポリマー溶液を調製する工程Ａと、収容容器と、上記収容容器内に収容された上記ポリマー溶液とを含み、且つ上記収容容器内の上記ポリマー溶液が充填されていない空間における不活性ガス含有率が８５体積％以上である溶液収容体を作製して、上記ポリマー溶液を保管する工程Ｂと、上記液体収容体で保管された上記ポリマー溶液と、上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物とを混合する工程Ｃとを含み、上記酸の作用により分解して極性が増大する樹脂が、所定の構造を含む樹脂である。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CHEMISTRY ; CINEMATOGRAPHY ; COMPOSITIONS BASED THEREON ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS ; MATERIALS THEREFOR ; METALLURGY ; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20201008&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2020203254A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20201008&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2020203254A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>MARUMO Kazuhiro</creatorcontrib><title>METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE</title><description>The present invention addresses the first problem of providing a method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, by which a pattern having excellent LWR can be formed even in cases where the resin composition is prepared using a procedure comprising preparing in advance a polymer solution containing an acid-dissociable resin and a solvent, storing the polymer solution for a prescribed period of time, and then mixing the polymer solution with other raw materials such as a photo-acid generator. In addition, the present invention addresses the second problem of providing: a method for forming a pattern by using an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition obtained using the production method; and a method for producing an electronic device. This method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a step A for preparing a polymer solution that contains a solvent and a resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid; a step B for producing a solution-accommodating body which includes an accommodating container and the polymer solution housed in the accommodating container, and in which the content of an inert gas is 85 vol% or more of the space inside the accommodating container that is not filled with the polymer solution, and for storing the polymer solution in the solution-accommodating body; and a step C for mixing the polymer solution stored in the solution-accommodating body with a compound that generates an acid upon irradiation with active light rays or radiation. The resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid is a resin that includes a prescribed structure.
La présente invention aborde le premier problème consistant à fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement, grâce à laquelle un motif ayant un excellent LWR peut être formé même dans les cas où la composition de résine est préparée à l'aide d'une procédure comprenant la préparation à l'avance d'une solution de polymère contenant une résine dissociable par un acide et un solvant, le stockage de la solution de polymère pendant une période de temps prescrite, puis le mélange de la solution de polymère avec d'autres matières premières telles qu'un générateur de photo-acide. De plus, la présente invention aborde le second problème consistant à fournir : un procédé de formation d'un motif à l'aide d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement obtenue à l'aide du procédé de production ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Le présent procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement comprend une étape A de préparation d'une solution de polymère qui contient un solvant et une résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide ; une étape B de production d'un corps de réception de solution qui comprend un récipient de réception et la solution de polymère logée dans le récipient de réception, et dans lequel la teneur en gaz inerte est de 85 % en volume ou plus de l'espace à l'intérieur du récipient de réception qui n'est pas rempli avec la solution de polymère, et de stockage de la solution de polymère dans le corps de réception de solution ; et une étape C de mélange de la solution de polymère stockée dans le corps de réception de solution avec un composé qui génère un acide lors de l'irradiation avec des rayons de lumière active ou un rayonnement. La résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide est une résine qui comprend une structure prescrite.
本発明の第１の課題は、酸分解性樹脂と溶剤とを含むポリマー溶液を予め調製して所定期間保管した後、上記ポリマー溶液と光酸発生剤を含むその他の原料とを混合する手順で調製された場合であっても、ＬＷＲが優れるパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。また、本発明の第２の課題は、上記製造方法により得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法は、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と、溶剤とを含むポリマー溶液を調製する工程Ａと、収容容器と、上記収容容器内に収容された上記ポリマー溶液とを含み、且つ上記収容容器内の上記ポリマー溶液が充填されていない空間における不活性ガス含有率が８５体積％以上である溶液収容体を作製して、上記ポリマー溶液を保管する工程Ｂと、上記液体収容体で保管された上記ポリマー溶液と、上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物とを混合する工程Ｃとを含み、上記酸の作用により分解して極性が増大する樹脂が、所定の構造を含む樹脂である。</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>COMPOSITIONS BASED THEREON</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2020</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjUELgkAQhb10iOo_DHRNKK0fsOyOOqA7sk5GJ5HYTlGC_aB-ahodPHSI4THwvcd78-BVoGRsIGEHpWNz1GRTUFqoRsgpzQScOocV2oo-bMg5ZUgJsZ1ghxVZ0FyUPBK2G5g0DyrG3lKJoBs8ZQ38XMYctTi2pMFgTRqXweza3nq_-v5FsE5QdBb67tH4vmsv_u6fzYmj7XhxdNirXfxf6g3BWUX_</recordid><startdate>20201008</startdate><enddate>20201008</enddate><creator>MARUMO Kazuhiro</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20201008</creationdate><title>METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE</title><author>MARUMO Kazuhiro</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2020203254A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2020</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>COMPOSITIONS BASED THEREON</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>MARUMO Kazuhiro</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>MARUMO Kazuhiro</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE</title><date>2020-10-08</date><risdate>2020</risdate><abstract>The present invention addresses the first problem of providing a method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, by which a pattern having excellent LWR can be formed even in cases where the resin composition is prepared using a procedure comprising preparing in advance a polymer solution containing an acid-dissociable resin and a solvent, storing the polymer solution for a prescribed period of time, and then mixing the polymer solution with other raw materials such as a photo-acid generator. In addition, the present invention addresses the second problem of providing: a method for forming a pattern by using an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition obtained using the production method; and a method for producing an electronic device. This method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a step A for preparing a polymer solution that contains a solvent and a resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid; a step B for producing a solution-accommodating body which includes an accommodating container and the polymer solution housed in the accommodating container, and in which the content of an inert gas is 85 vol% or more of the space inside the accommodating container that is not filled with the polymer solution, and for storing the polymer solution in the solution-accommodating body; and a step C for mixing the polymer solution stored in the solution-accommodating body with a compound that generates an acid upon irradiation with active light rays or radiation. The resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid is a resin that includes a prescribed structure.
La présente invention aborde le premier problème consistant à fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement, grâce à laquelle un motif ayant un excellent LWR peut être formé même dans les cas où la composition de résine est préparée à l'aide d'une procédure comprenant la préparation à l'avance d'une solution de polymère contenant une résine dissociable par un acide et un solvant, le stockage de la solution de polymère pendant une période de temps prescrite, puis le mélange de la solution de polymère avec d'autres matières premières telles qu'un générateur de photo-acide. De plus, la présente invention aborde le second problème consistant à fournir : un procédé de formation d'un motif à l'aide d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement obtenue à l'aide du procédé de production ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Le présent procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement comprend une étape A de préparation d'une solution de polymère qui contient un solvant et une résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide ; une étape B de production d'un corps de réception de solution qui comprend un récipient de réception et la solution de polymère logée dans le récipient de réception, et dans lequel la teneur en gaz inerte est de 85 % en volume ou plus de l'espace à l'intérieur du récipient de réception qui n'est pas rempli avec la solution de polymère, et de stockage de la solution de polymère dans le corps de réception de solution ; et une étape C de mélange de la solution de polymère stockée dans le corps de réception de solution avec un composé qui génère un acide lors de l'irradiation avec des rayons de lumière active ou un rayonnement. La résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide est une résine qui comprend une structure prescrite.
本発明の第１の課題は、酸分解性樹脂と溶剤とを含むポリマー溶液を予め調製して所定期間保管した後、上記ポリマー溶液と光酸発生剤を含むその他の原料とを混合する手順で調製された場合であっても、ＬＷＲが優れるパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。また、本発明の第２の課題は、上記製造方法により得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法は、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と、溶剤とを含むポリマー溶液を調製する工程Ａと、収容容器と、上記収容容器内に収容された上記ポリマー溶液とを含み、且つ上記収容容器内の上記ポリマー溶液が充填されていない空間における不活性ガス含有率が８５体積％以上である溶液収容体を作製して、上記ポリマー溶液を保管する工程Ｂと、上記液体収容体で保管された上記ポリマー溶液と、上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物とを混合する工程Ｃとを含み、上記酸の作用により分解して極性が増大する樹脂が、所定の構造を含む樹脂である。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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