METHOD FOR DETERMINING PATTERN IN A PATTERNING PROCESS

A method for training a patterning process model, the patterning process model configured to predict a pattern that will be formed on a patterning process. The method involves obtaining an image data associated with a desired pattern, a measured pattern of the substrate, a first model comprising a first set of parameters, and a machine learning model comprising a second set of parameters; and iteratively determining values of the first set of parameters and the second set of parameters to train the patterning process model. An iteration involves executing, using the image data, the first model and the machine learning model to cooperatively predict a printed pattern of the substrate; and modifying the values of the first set of parameters and the second set of parameters such that a difference between the measured pattern and the predicted pattern of the patterning process model is reduced. L'invention concerne un procédé d'apprentissage de modèle de processus de formation de motif, ledit modèle étant configuré pour prédire un motif qui sera formé sur un processus de formation de motif. Le procédé consiste : à obtenir des données d'image associées à un motif souhaité, un motif mesuré du substrat, un premier modèle comprenant un premier ensemble de paramètres, et un modèle d'apprentissage automatique comprenant un second ensemble de paramètres ; et à déterminer de manière itérative des valeurs des premier et second ensembles de paramètres afin d'apprendre le modèle de processus de formation de motif. Une itération consiste : à exécuter, au moyen des données d'image, le premier modèle et le modèle d'apprentissage automatique afin de prédire de manière coopérative un motif imprimé du substrat ; et à modifier les valeurs des premier et second ensembles de paramètres de sorte qu'une différence entre le motif mesuré et le motif prédit du modèle de processus de formation de motif soit réduite.